Punt de material de pel·lícula d'equips de xapat al buit

Punt de material de pel·lícula d'equips de xapat al buit

​

El mal punt del material de la pel·lícula també és un problema comú dels productes de recobriment. A les empreses japoneses i taiwaneses, el punt de material de pel·lícula s'anomena "forat tacat".

Com el seu nom indica, el punt del material de la pel·lícula es troba en el procés d'evaporació, el punt del material de la pel·lícula de partícules grans s'evapora a la superfície del substrat juntament amb les molècules de vapor del material de la pel·lícula, formant protuberàncies puntuals a la superfície del substrat, de vegades. punts individuals, en casos greus, és una peça. El punt fi, el punt de partícula gran fins i tot poden danyar la superfície del substrat.

Les característiques d'evaporació de diversos materials de pel·lícula són diferents, especialment la temperatura del punt de fusió i la temperatura d'evaporació són molt diferents. El material la temperatura del punt de fusió és superior a la temperatura d'evaporació es vaporitza directament i s'evapora de l'estat sòlid, que és un material de sublimació; el material la temperatura del punt de fusió és inferior a la temperatura d'evaporació es transforma primer d'un estat sòlid a un estat líquid i després es transforma a un estat gasós per evaporar, que és un material no sublimable; la temperatura del punt de fusió és equivalent a la temperatura d'evaporació. El material s'evapora d'estat sòlid a gasós i s'evapora a mesura que es fon. És un material de semisublimació.

Entre ells, els materials sense sublimació són els més propensos a generar taques de pel·lícula, perquè el material de pel·lícula líquida bullirà si es continua escalfant, i les bombolles del material de la pel·lícula es desbordaran durant l'ebullició i la possibilitat d'esquitxar taques de pel·lícula. augmentarà. De vegades hi ha una gran esquitxada quan el material es fon prèviament.

Quan el material de la pel·lícula està humit, el vapor d'aigua s'escapa durant la prefusió o l'evaporació, que també provocarà esquitxades.

Mètode de millora per a l'alliberament de pel·lícules d'equips de galvanoplastia al buit

Tot i que el peeling aquí també és una pel·lícula feble, té algunes diferències amb el peeling esmentat anteriorment, i les característiques principals són: peeling local, peeling de vora i peeling local. El motiu principal és que hi ha brutícia o contaminació a la membrana.

Millora dels mètodes:

Millorar la neteja del substrat.

www.superbheater.com