El material base de la galvanoplastia de maquinari al buit és el metall

El material base de la galvanoplastia de maquinari al buit és el metall

El material base de la galvanoplastia de maquinari és el metall, com ara ferro, aliatge de zinc, aliatge de coure, etc. El material base de la galvanoplastia de plàstic és plàstic. A causa dels diferents substrats, els processos preprocessats són completament diferents, però la galvanoplastia posterior és bàsicament la mateixa.

La relació d'àrea de càtode i ànode en galvanoplastia al buit i l'efecte del poliment entre elèctrodes

En el procés de galvanoplastia al buit, com ara la relació d'àrea de càtode i ànode a l'elèctrode i la distància entre elèctrodes tindran un impacte important en el poliment. Els canvis ajustables al mateix temps, en tenir correlació, estaran relacionats entre si. Per exemple, quan es polien les peces d'acer inoxidable, es determinen la composició, les característiques, l'estructura metal·logràfica i les condicions de la superfície de les peces, però la composició i la fórmula del líquid d'electropolit utilitzat i les condicions del procés de poliment s'afectaran mútuament. .

Els factors que afecten la qualitat del poliment del revestiment al buit són molts i complexos

El procés de poliment és un projecte força complicat en el procés de revestiment al buit. Perquè els factors que afecten la qualitat del poliment són multifacètics i complexos. En resum, hi ha principalment les propietats del propi material de poliment, com ara propietats físiques i mecàniques, estructura metàl·lica; l'estat de la superfície polida; la composició i la fórmula de la solució d'electròlits; condicions de funcionament i paràmetres de procés, com ara la temperatura de la solució, la concentració, el valor de PH, el funcionament i l'ús La tensió i la densitat de corrent de la solució; l'estat de flux i la velocitat de la solució, i el control del temps de polit.

Àtoms neutres ionitzats per revestiment al buit

Els àtoms neutres ionitzats (aproximadament el 95 per cent del material evaporat) també es dipositen al substrat o a la superfície de la paret de la cambra de buit. L'efecte del camp de recobriment PVD sobre l'efecte de neteja del substrat de les molècules de vapor (l'energia iònica és d'uns quants centenars de kiloelectrons volts) i la pulverització d'ions d'argó, augmenta molt l'efecte d'acceleració de la força d'adhesió de la pel·lícula.

www.superbheater.com