Concentració local de corrent a la màquina de recobriment al buit

Concentració local de corrent a la màquina de recobriment al buit

La part expulsada del punt d'alta densitat d'electrons generarà un corrent d'alta densitat, i el corrent d'alta densitat pot generar calor Joule i fer que la temperatura del punt continuï augmentant, emetent electrons calents. Aquest fenomen dóna lloc a una concentració localitzada de corrent.

La calor de Joule generada per la concentració localitzada del corrent pot induir una emissió massiva d'ions i electrons del material del càtode, alliberant partícules del material del càtode fos i deixant rastres de descàrrega.

Part dels ions d'un gran nombre d'ions expulsats seran aspirats de nou a la superfície del material del càtode per regenerar la capa de càrrega espacial i el fort camp elèctric, i el punt nou generat amb una petita funció de treball començarà a emetre electrons de nou. .

Els electrons s'emeten pels límits de gra de les recobridores al buit

Els ions metàl·lics són atrets a la superfície del càtode i poden generar una capa de càrrega espacial. El fort camp elèctric activat durant aquest temps fa que els electrons siguin expulsats de microesquerdes o límits de gra amb una petita funció de treball a la superfície del càtode.

Aspireu la paret interior i l'ànode de la font objectiu de la màquina de recobriment al buit

Després de moltes col·lisions, l'energia dels electrons disminueix gradualment, s'elimina dels grillons de les línies del camp magnètic i finalment cau sobre el substrat, la paret interior de la cambra de buit i l'ànode de la font objectiu. Sota l'acceleració del camp elèctric d'alta tensió, els ions Ar plus xoquen amb l'objectiu i alliberen energia, fent que els àtoms de la superfície de l'objectiu absorbeixin l'energia cinètica dels ions Ar plus i es trenquin de la xarxa original. i els àtoms neutres objectiu s'escapa de la superfície de l'objectiu. Voleu al substrat i dipositeu una pel·lícula fina sobre el substrat.

www.superbheater.com